国内有自主光刻机的计划吗？华为有所行动吗？国内是否有自主光刻机研发进展，华为是否在推进该领域建设?

目前，在中国及全球范围内，政府、企业和科研机构都在积极探索自主研发光刻机的可能性，并积极寻求相关技术突破，华为作为全球领先的科技公司之一，于2021年推出第一台面向高端光刻机市场的“90mm”紫外光刻机，并取得了显著成效，相比日本、韩国等领先企业，我国当前在光刻机的研发水平和产业化进程中仍面临一些挑战，包括设备制造精度不高、工艺路线复杂、关键材料供应受限等问题。，尽管如此，华为并未止步不前，仍在积极研发具有自主知识产权的下一代光刻机，据业内专家预测，随着5G、人工智能、量子计算等新兴技术的发展，未来有可能出现更加先进的紫外光刻机或更高的分辨率光源产品，中国政府也加大了对激光与光学领域的支持力度，推动国产装备向高端化、智能化方向发展。，为实现这一目标，我国有望通过强化基础研究、提高产业链自主可控能力、构建产学研一体化创新体系等方式，进一步加快光刻机的研发进程，利用政策优惠、国际合作等多种手段，加强关键材料和技术引进消化吸收再创新，逐步打破依赖进口的局面，满足自主光刻机市场需求，注重人才培养和技术创新，提升产业工人队伍的技术素质和创新能力，形成高效协同、合作共赢的良好格局，从而为我国光刻机制造业注入新的活力和竞争力，预计在未来数年内，国内将涌现一批具备核心竞争力的自主光刻机品牌，推动我国半导体产业链迈向高端化，助力国家经济持续高质量发展。

国内已有光刻机研发计划,并致力于追赶先进制程，国内已能生产约48纳米的制程，面临科技受阻极端情况，仍可通过使用落后制程实现部分效能提升，但仍需寻求其他途径积累技术进步，华为专注于芯片设计，并不直接从事光刻机的生产和制造，华为与全球顶级芯片制造厂商保持密切合作关系，台积电为其贡献了可观收入，华为向中芯国际等国内厂商下订单并积极推进更高阶制程的研发，在全球光刻机市场，阿斯麦ASML以EUV光刻机为主要竞争优势，而佳能、尼康聚焦中低端市场，上海微电子正在研发和生产光刻机，并尝试向高端发展，总体而言，尽管我国与国际先进企业存在差距，但我们具备强大的执行力和决心，坚信在不久的将来，国产光刻机技术将取得突破，有望进入全球光刻机制造产业第一梯队。